(特派員鄒志中報導) 「中華民國國際版畫雙年展是臺灣藝術界與藝術家的光榮!」國美館舉辦的「國際版畫雙年展」與波蘭的版畫展,並列世界的兩大版畫展之一,文化部所屬國立臺灣美術館主辦「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」,日前舉辦頒獎典禮暨開幕式,邀請得獎藝術家及入選者一同出席與會,金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席盛會,由文化部常務次長李連權、國立臺灣美術館館長廖仁義、評審團代表呂燕卿等頒發獎狀,彰顯獲獎藝術家的榮譽。
本屆國際版畫雙年展獲得世界各地版畫創作者的迴響與支持,共徵得來自79國的1011件作品。經初審評審團審慎地討論與篩選,再交由國際複審委員多輪謹慎的評選過程,遴選出計50國180件展出作品。其中包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選及佳作各5名,共計15件得獎作品。
文化部常務次長李連權代表文化部長李永得感謝國美館與藝術家40年20屆不間斷的舉辦及參與,李次長表示,國美館舉辦的「國際版畫雙年展」與波蘭的版畫展,並列世界的兩大版畫展之一,「中華民國國際版畫雙年展」有三大特色,一是國際化,本屆吸引來自全球五大洲、79國1011位藝術家報名參賽;二是各國參展水準十分平均;三是評審非常公平公正。此外,本展有二層重要的意義,一是促進臺灣版畫與國際間的文化交流;二是打造「國際版畫雙年展」成為國際品牌,在國際知名度大增。
國美館長廖仁義表示,版畫是人類歷史中很古老的藝術,在臺灣的發展歷史也很悠久,自1960年代後,臺灣民間有很多版畫工作室,學校美術科系亦有教授版畫,在全臺各地有很多傑出的版畫藝術家。
因此,國美館舉辦「國際版畫雙年展」,抱持著使命感,希望為整個國際版畫界提供一個表現及得到光榮的舞臺。「國際版畫雙年展」1983年開始舉辦,至今40年,比國美館年紀還要大,本屆共徵得來自世界79國、1011件作品參賽,不但說明國美館在評審過程的專業態度,也更說明臺灣是熱愛和平,能夠欣賞別人優點的國家。
國美館表示,本屆雖受疫情影響,但外國得獎藝術家及外國審查委員仍踴躍參與,複審委員澳洲皇家墨爾本理工大學藝術學院榮譽教授Lesley DUXBURY女士不畏疫情來臺審查。金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席活動,顯示藝術家對「中華民國國際版畫雙年展」的重視。
金、銀、銅牌得獎藝術家特別表達感謝國美館與評審團的青睞,有幸獲獎及參與「中華民國國際版畫雙年展」。金牌獎得主CléMence FERNANDO說,「國美館就像藝術的仙境,能夠在這裡看到自己的作品,非常開心。」,銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO今年即將完成波蘭華沙美術學院的版畫博士學位,來自烏克蘭的她說到親人勇敢留在戰火中,致詞時她特別感謝家人從小對她在藝術創作的支持。銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA提到,2年前因為疫情無法來臺參加本展,當時十分惆悵,4年後重新歸來,十分喜悅。
本屆初審評審團召集人呂燕卿提到,「本屆版畫作品完整度高超,並體現作品的共同性與特殊性。共同性如審美理想與人生關照之傳達,特殊性如各具民族意識與文化特質、多元而獨特」。複審委員陳曉朋表示,「本屆獲獎者的作品充分展現新時代、疫情下的人類生存面向,併用版種、媒材技法多元而帶有科技進步趨向。整體在全球化、普遍性的面相下仍保有性別、國家、區域、種族的個別性,充分展現當代生活的節奏」。
國美館指出,本屆榮獲金牌獎的是來自法國的女性藝術家CléMence FERNANDO,以美柔汀雕凹技法創作的作品〈54〉,藉元素重複組合的多樣變化,探索多樣可能的創造性;獲得銀牌獎的是烏克蘭籍的藝術家Irena LAWRUSZKO(現居波蘭),她的作品〈Time and Passing III〉,取材來自廢棄寺廟獲得的靈感,運用蝕刻、金箔技法來營造出時間流逝下頹然的氛圍;來自哥倫比亞的參賽者Orlando MARTINEZ VESGA的作品〈Flight Practices, from the Series“P F A A O A”〉獲得銅牌獎,他擅長利用日常與荒謬行為的對照,呈現出某種不安的平衡,試圖探問打破規則的可能。
本屆有半數的參賽作品來自亞洲地區,委員皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等幾點表示高度肯定。另一方面,在本屆獲獎的15位藝術家中,臺灣藝術家共佔有2席(榮獲評審團特別獎的李佩璋及佳作獲獎者潘孟堯),顯示臺灣版畫創作的純熟度及藝術表現性備受肯定。其他幾位得獎藝術家,包含來自日本、中國等亞洲國家者;來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者;以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者。此外,本屆共有97位來自波蘭的藝術家參賽,為歐美地區參賽者最多的國家,16位經過初審遴選進入複審,其中Wieslaw HALADAJ及Monika PAŁKA皆獲得優選獎,取得優秀的成績,顯示「國際版畫雙年展」深耕亞洲之外,也受到世界各國藝術家的支持與重視。
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」即日起於國美館展出,除邀請國內版畫領域專家學者以及本屆獲獎藝術家與會,分享各自的版畫創作理念與歷程,探討國際版畫發展潮流等相關議題,還有其他相關的推廣教育活動,歡迎台灣藝術愛好者共襄盛舉。各活動詳情,請上國美館網站查詢(http://www.ntmofa.gov.tw)。